少量未處理的灰塵微?；蛘邭怏w分子可能嚴重影響一些工藝流程。請想象一下污染的空氣對半導體這種高度敏感的制造工藝流程可能產生什么樣的危害。
    在半導體生產中，前沿的生產技術需要潔凈度很高的空氣，而且這一潔凈度要求還在不斷提高。通常要求晶圓生產環境的灰塵粒徑要小于25nm（2009年），目前這一粒徑值還在減小，預計到2017年將減小到10nm。氣載分子污染物（AMC）也是高級晶圓廠關注的問題。很多氣載分子污染物（AMC）都被證實會影響產品良率。例如，酸性氣體會腐蝕硬盤或晶圓，可凝性有機物的沉降和低濃度氨氣的存在會影響生產操作。
    潔凈室的重心就是空氣過濾設備，根據不同的潔凈室類型，需要考慮使用不同的過濾設備。
    憑借微電子和半導體污染控制技術行業經驗，十堰市嘉盛環?？萍加邢薰就耆軌蛱峁┳罴褲崈艨諝饨鉀Q方案。使以下工藝得到保護:
    晶圓及半導體
    微電子工藝設備
    硬盤驅動
    印刷電路板
    平板顯示
    太陽能面板